חֶברָה Huawei רשם פטנט על אחד הרכיבים החשובים המשמשים במערכות ליטוגרפיה EUV (ליטוגרפיה אולטרה סגולה קיצונית), הנחוצה ליצירת מעבדים ברמה גבוהה בתהליך טכנולוגי של עד 10 ננומטר. זה פותר את הבעיה של דפוסי הפרעות שנוצרו על ידי אור אולטרה סגול, שאחרת יהפוך את הצלחת לא אחידה.
החברה נמצאת בשלב הסופי של ייצור מיקרו-מעגלים Huawei פתר את הבעיה שנגרמה מאורכי גל זעירים של אור אולטרה סגול קיצוני. הפטנט של החברה מתאר מערך של מראות המפצלות אלומת אור למספר תת-אלומות שמתנגשות במראות המיקרוסקופיות שלהן.
נכון לעכשיו, מערכות ליטוגרפיה EUV מיוצרות באופן בלעדי על ידי חברת ASML ההולנדית. הם מבוססים על אותם עקרונות כמו צורות ישנות יותר של ליתוגרפיה, אך משתמשים באור עם אורך גל של כ-13,5 ננומטר, שהוא כמעט קרני רנטגן. ASML מייצר אור אולטרה סגול מטיפות נעות במהירות של פח מותך בקוטר של כ-25 מיקרון.
"במהלך הנפילה", מסביר ASML, "טיפות נופלות תחילה תחת דופק לייזר בעצימות נמוכה, שמשטח אותן לפנקייק. דופק לייזר חזק יותר לאחר מכן מאדה את הטיפה הפחוסה, ויוצר פלזמה הפולטת אור אולטרה סגול. על מנת להפיק מספיק אור לייצור שבבים, תהליך זה חוזר על עצמו 50 פעמים בכל שנייה.
לקח ASML יותר מ-6 מיליארד יורו ו-17 שנים לפתח את המנה הראשונה של מכונות ליטוגרפיה EUV שניתן למכור. אבל ממשלת ארה"ב הפעיל לחץ על ממשלת הולנד, כדי שהחברה לא תייצא את החידוש לסין, והמדינה תהיה מוגבלת לטכנולוגיית DUV (אולטרה סגול עמוקה) הישנה יותר. אז כרגע רק חמש חברות משתמשות או הכריזו על תוכניות להשתמש במערכות ליטוגרפיה ASML EUV: אינטל ומיקרון בארה"ב, Samsung ו-SK Hynix בדרום קוריאה ו-TSMC בטייוואן.
חברות סיניות כגון Huawei, יכלו בעבר לשלוח את העיצובים שלהם למפעלים כמו TSMC שייוצרו באמצעות ליטוגרפיה EUV. אבל מאז ארה"ב הציגה סנקציות נגד סין, זה הופך כמעט בלתי אפשרי. למרות זאת Huawei עדיין זקוק לגישה לצמתים מתקדמים המשתמשים בליטוגרפיה EUV כדי להמשיך ולשפר את המעבדים. אז עכשיו החברה שואפת לבנות מערכות EUV משלה ומקבלת מספיק הון ותמיכה מהממשלה. אבל זה עדיין צריך הרבה זמן.
אתה יכול לעזור לאוקראינה להילחם נגד הפולשים הרוסים. הדרך הטובה ביותר לעשות זאת היא לתרום כספים לכוחות המזוינים של אוקראינה באמצעות הצלת חיים או דרך העמוד הרשמי NBU.
קרא גם: